최신의 노광 기술인 EUV 노광에 이용되는 EUV POD를 위한 전자동 세정 장치(특허 취득 완료)입니다. Inner POD, Outer POD의 분해/재조립은 물론 각 POD는 개별 전용 CH에서 세정/건조됩니다.

완전 무인가동도 가능합니다.

반도체 디바이스 용기 세정 장비 제조업체로서 30년간 구축한 자체 세정/건조 기술로 나노 수준의 파티클 제거를 실현합니다.