REN - 全自動EUV POD洗浄システム Fully Automatic EUV POD Cleaning System

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2013Apr 9

最新の露光技術であるEUV露光に用いられるEUV PODのための全自動洗浄装置です。Inner POD、Outer PODの分解/再組立はもちろん、各PODは個別の専用CHで洗浄/乾燥されます。完全無人稼動も可能です。ナノレベルのパーティクル除去を半導体デバイス容器洗浄装置メーカーとして30年間構築した独自の洗浄/乾燥技術で実現します。・省フットプリント設計・独自の洗浄技術による超精密洗浄・高効率乾燥方式による完全乾燥実現・全自動POD開閉によるクロスコンタミネーション防止・RSP200対応可能・ロボットハンドセルフクリーニングシステム内蔵・個別専用チャンバー処理 This system washes EUV mask case by Hugle's unique method and dries perfectly with highly efficient method. http://www.hugle.co.jp/products/clean...